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場發射電子顯微鏡

產品描述：用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。Sigma 300 性價比高。Sigm...
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用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡

靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能

將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。


Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有一流的背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。

詳細請參考：ZEISS Sigma Family - Your FE-SEMs for High Quality Imaging and Advanced Analytical Microscopy


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